核心提示：摄像模组/指纹模组清洗剂W3500是针对摄像头模组镜头清洗开发的一款环保型水基清洗剂，主要适用于去除对摄像头镜片上沾附的油污、手印、静电粒子、灰尘等Particle污染物。配合超声波清洗工艺，可用于摄像头模组等具有高精、高密、组装有microBGAs、Flip-Chips等高新元器件的高洁净清洗。
摄像模组/指纹模组清洗剂W3500介绍
摄像模组/指纹模组清洗剂W3500是针对摄像头模组镜头清洗开发的一款环保型水基清洗剂，主要适用于去除对摄像头镜片上沾附的油污、手印、静电粒子、灰尘等Particle污染物。配合超声波清洗工艺，可用于摄像头模组等具有高精、高密、组装有microBGAs、Flip-Chips等高新元器件的高洁净清洗。该产品采用我公司专利技术研发，清洗力强，气味清淡，不含卤素。温和配方对FPC等板材所用敏感金属及电子元器件等均具有良好的材料兼容性，是一款非常理想的环保型水基清洗剂。
摄像模组/指纹模组清洗剂W3500的产品特点：
1、清洗负载能力高，具有超长的使用寿命，维护成本低。
2、适用于如摄像头模组等具有高精、高密、高洁净清洗要求的精密电子零件的清洗。
3、配方温和，对 FPC 等板材所用敏感金属合金及电子元器件等均具有良好的材料兼容性。
4、能有效清除镜片表面残留的静电、污垢及金属离子、灰尘等 Particle，清洗率高达 95%以上；
5、不含卤素，使用安全，不需要额外的防爆措施。
摄像模组/指纹模组清洗剂W3500的适用工艺：
水基清洗剂W3500适用于超声波清洗工艺。
摄像模组/指纹模组清洗剂W3500产品应用：
水基清洗剂W3500主要用于去除油污、手印、静电粒子、灰尘等污染物，对金属氧化层也有一定的清洗效果。
W3500用在超声波清洗工艺中，可批量清洗结构复杂的电子组装件，对于底座低间隙的助焊剂残留物也能达到很好的清洗效果。在超声波清洗工艺中，将待清洗件浸没在清洗槽中，利用超声波在清洗剂中的空化作用、加速度作用及直进流作用，和清洗剂对污垢的超强溶解性相结合，使污垢层被溶解、分散、乳化，或剥离而达到清洗目的。
摄像模组/指纹模组清洗剂W3500是针对摄像头模组镜头清洗开发的一款环保型水基清洗剂，主要适用于去除对摄像头镜片上沾附的油污、手印、静电粒子、灰尘等Particle污染物。配合超声波清洗工艺，可用于摄像头模组等具有高精、高密、组装有microBGAs、Flip-Chips等高新元器件的高洁净清洗。该产品采用我公司专利技术研发，清洗力强，气味清淡，不含卤素。温和配方对FPC等板材所用敏感金属及电子元器件等均具有良好的材料兼容性，是一款非常理想的环保型水基清洗剂。
摄像模组/指纹模组清洗剂W3500的产品特点：
1、清洗负载能力高，具有超长的使用寿命，维护成本低。
2、适用于如摄像头模组等具有高精、高密、高洁净清洗要求的精密电子零件的清洗。
3、配方温和，对 FPC 等板材所用敏感金属合金及电子元器件等均具有良好的材料兼容性。
4、能有效清除镜片表面残留的静电、污垢及金属离子、灰尘等 Particle，清洗率高达 95%以上；
5、不含卤素，使用安全，不需要额外的防爆措施。
摄像模组/指纹模组清洗剂W3500的适用工艺：
水基清洗剂W3500适用于超声波清洗工艺。
摄像模组/指纹模组清洗剂W3500产品应用：
水基清洗剂W3500主要用于去除油污、手印、静电粒子、灰尘等污染物，对金属氧化层也有一定的清洗效果。
W3500用在超声波清洗工艺中，可批量清洗结构复杂的电子组装件，对于底座低间隙的助焊剂残留物也能达到很好的清洗效果。在超声波清洗工艺中，将待清洗件浸没在清洗槽中，利用超声波在清洗剂中的空化作用、加速度作用及直进流作用，和清洗剂对污垢的超强溶解性相结合，使污垢层被溶解、分散、乳化，或剥离而达到清洗目的。
具体应用效果如下列表中所列：
